硅橡胶改性研磨分散机，改性硅橡胶的意义，纳米改性硅橡胶技术，硅橡胶改性设备，高剪切研磨分散机
硅橡胶具有优异的耐热性、耐寒性和电性能，广泛用于电绝缘制品和密封制品等领域中，近几年得到了长足发展。随着工业化水平的不断提高，人们对硅橡胶的要求也越来越高，传统的硅橡胶产品难以满足人们的要求，尤其在机械性、阻燃性和抗老化性等方面，因此，对硅橡胶进行改性势在必行。
纳米粒子具有量子尺寸效应、小尺寸效应、表面效应和宏观量子隧道效应，因而展现出许多特有的性质。在催化、光吸收、磁介质及新材料等领域有良好的发展前景，在对高分子材料性能的改善与提高方面也具有巨大的发展空间。利用纳米材料作为改性剂对室温硫化硅橡胶进行相关性能研究是一种新颖而有效的手段，纳米SiOx粒子尺寸在10-15 nm，表面原子数目多，具有较高的表面能和表面结合能；同时，纳米SiOx粒子表面氧原子大量流失，纳米SiOx分子式中值在1．2～1．6之间，因而粒子表面欠氧而具有不稳定的硅氧结构；另外，纳米SiOx粒子表面还含有大量羟基，表面羟基值高达48％。因而利用纳米SiOx对室温硫化硅橡胶改性时将产生特殊的效果。并且，纳米SiOx的主要成分与室温硫化硅橡胶的主链组成相同，有利于纳米材料在其中分散。再加以高精密的分散设备的配合，防止纳米SiOx在分散中形成二级团聚体，IKN研磨分散机在纳米改性硅橡胶领域有着丰富的经验，设备的结构以及高的转速，可以很好的将纳米物料分散到硅橡胶中，从而更充分的改进硅橡胶的性能。
CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）
CMD2000系列研磨分散机的结构：
研磨式分散机是由锥体磨,分散机组合而成的高科技产品
级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。
CMD2000系列研磨分散机的特点：
① 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨
② 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。
③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离
④ 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。
⑤ 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。
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