前面我们在讲ITO导电膜玻璃发展历史的时候，有提到过，它经历了从液晶显示器、电子表、计算器上的应用，到现阶段的各种触控屏设备。纵观历史，我们能够发现，大尺寸化将是ITO导电膜玻璃的一个必然发展方向。 比如，原本我们觉得用手指在手机上点点就能实现交互的功能已经很强大了，现阶段我们发现越来越多、越来越大的设备上，都实现了触屏控制。所以，为满足液晶面板厂商不断增加的大尺寸显示屏产品的开发，ITO导电玻璃的尺寸也必将不断扩大。未来，我们也能够在各种场景中见到越来越多的大尺寸触控设备。当然，这也必然要求ITO玻璃的生产工艺更加的先进和精细，同时它也必须变得更加“柔性化”。
作为一站式服务的导电玻璃厂家，苏州尚阳太阳能科技有限公司多年专注于ITO/FTO导电玻璃、镀钼玻璃、浮法玻璃、石英玻璃、柔性导电膜，以及玻璃相关实验室设备的设计、研发和产销。
产品广泛应用于太阳能、显示屏、智能家居、电子电器、光学、高校实验室、科研所等各种行业，并为广大客户提供完善的售后服务。一手厂家货源，尺寸、厚度、阻值均可定制，质量过硬，价格公道，欢迎来电垂询！
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蕞近几年来国内外的研究者分别在低温制备的设备、工艺、薄膜的表面改性、多层膜系的设计和制备工艺方面进行了深入的研究。例如，Wu Wen-Fa等利用R.F磁控溅射工艺在不加热的聚碳酸酯（PC）衬底上制备了厚度为250mm，电阻率为6× ~2（Ω·cm），透过率为74%~90%；Park Sung Kyu等利用R.F磁控溅射工艺在低温聚合物PES上制备了110nmITO，方块电阻是20O/□，透过率80%，但是表面的粗糙度较大；法国的David等，利用In-Sn合金靶在100℃下沉积在聚合物上的ITO薄膜透过率为85%，电阻率为~0.003Ω·cm，表面粗糙度为15-50，美国的Daeil.KIM用直接金属离子束沉积（DMIBD）方法在70℃的条件下制备的ITO薄膜蕞高透过率为85%，蕞低电阻率为4×Ω·cm，表面质量比较高；此外还有一些研究人员利用脉冲激光沉积（PLD），电子束热蒸发和金属离子辅助溅射等方法在低温甚至在室温的条件下进行高质量塑基的薄膜制备。
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